10 µm
procédé de fabrication de semi-conducteurs
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10 µm (ou encore 10 000 nm) est la dimension caractéristique d'un procédé de fabrication des semi-conducteurs. Cette technologie a été atteinte par Intel, le principal fabricant de semi-conducteurs dans les années 1971-1972[1].
Le successeur de ce procédé utilise une largeur de canal de 3 µm.
Produits fabriqués avec un procédé à 10 µm
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- CPU Intel 4004 lancé en 1971, premier microprocesseur fabriqué avec ce procédé.
- CPU Intel 8008 lancé en 1972.
Notes et références
modifier- Alain Binet, Le Second XXe siècle (1939-2000), Paris, Ellipses, 2003, p. 208
Voir aussi
modifierBibliographie
modifier- (en) Grant McFarland, Microprocessor Design : A Practical Guide from Design Planning to Manufacturing, McGraw-Hill Publishing Companies, Inc., , 408 p. (ISBN 0071459510, DOI 10.1036/0071459510)
